随着显示面板、半导体等领域对产品精度和分辨率要求的不断提高，高精度掩膜版的需求量也在不断增加，对其尺寸和耐用性也提出了更高的要求。在此背景下，国内掩膜版企业迎来发展契机，不断探索新的制造工艺和材料技术，以满足日益严苛的市场需求。
近日，由中国国际经济技术合作促进会标准化工作委员会（以下简称“国促会标委会”）联合通标中研标准化技术研究院共同组织的《高精度金属掩膜版技术要求》团体标准启动会成功召开。
会议由国促会标委会标准部李千均主持，标准起草组副组长、标准部副主任滕悦，标准部曹东建出席会议。江苏乐萌精密科技有限公司、南京高光半导体材料有限公司、国鑫箔材（山东）新材料有限公司、北京北冶功能材料有限公司、成都拓维高科光电科技有限公司、通标中研标准化技术研究院等单位代表及相关行业专家参加本次启动会。
会上，李千均就国促会成立以来的发展情况以及工作内容进行详细介绍，曹东建对《高精度金属掩膜版技术要求》团体标准的立项背景、编制情况、编制原则与框架、标准工作计划进行汇报，得到了参会代表的一致认可。
在标准讨论环节，行业专家和参编单位代表围绕《高精度金属掩膜版技术要求》团体标准的范围、规范性引用文件、术语和定义、技术要求、试验方法等内容进行积极研讨，建立健全掩膜版标准技术体系，明确高精度金属掩膜版关键技术指标，并对制造过程进行严格规范，提升掩膜版制造精度和质量水平，推动行业产品升级和国产化进程加速。
会议最后，滕悦副主任对本次会议进行总结发言。她表示，近年来，我国推出多项政策支持OLED面板行业制定金属掩膜版方面相关标准，《国务院关于数字经济发展情况的报告》《虚拟现实与行业应用融合发展行动计划（2022-2026年）》等文件都曾明确提出，要加大集成电路、新型显示等重点领域核心技术创新力度，深入推进国家战略性新兴产业集群发展，推进显示器件的规模量产。对此，标委会立项制定《高精度金属掩膜版技术要求》团体标准，将有利于推动整个行业规范化和标准化，促进高精度金属掩膜版技术不断成熟和应用领域持续扩大，引领电子信息产业向更高层次、更高水平发展。
掩膜版作为国家发展战略的重要产业之一，是下游行业生产流程衔接的关键部分，同时也是影响下游产品精度和质量的决定因素之一。在国家政策的大力支持下，我国掩膜版行业国产化进程加快，对电子信息产业关键材料与上下游协同创新提出了更高的要求，高精度金属掩膜版行业迎来了巨大发展机遇。而本项标准的制定，可有效填补金属掩膜版领域相关标准空白，提升我国科技发展水平，促进国内掩膜版行业各企业增强竞争实力，实现快速发展。